1970s-第一阶段

ALD的发明
Suntola提出ALD看法并逐渐完善

1980s-1990s-第二阶段

ALD的孕育与积累
ALD最先应用于TFT等领域奇异的自限制沉积模式优势初显

2000s~至今-第三阶段

ALD大规模应用与爆发
ALD最先应用于intel处置惩罚器的high-k层并最先大规模应用

应用领域一直拓展

能源领域：太阳能电池背面钝化、光伏活性层、防腐镀膜、超亲水/疏水涂层、防尘涂层、锂离子电池质料增效
微电子和微机电领域：存储器件活性层、OLED封装、纳米结构器件、微部件的防侵蚀和抗磨损
光学应用：反射涂层和増透涂层，透镜；ぁ⒐庹て骷、曲面镀膜
其他：膜结构和多孔结构催化活性层、高效贵金属活性层